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聊城冠宇客運(yùn)有限責(zé)任公司

HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片

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EVG620NT技術(shù)數(shù)據(jù):曝光源:汞光源/紫外線LED光源先進(jìn)的對準(zhǔn)功能:手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗(yàn)證自動對準(zhǔn)動態(tài)對準(zhǔn)/自動邊緣對準(zhǔn)對準(zhǔn)偏移校正算法EVG620NT產(chǎn)量:全自動:弟一批生產(chǎn)量:每小時180片全自動:吞吐量對準(zhǔn):每小時140片晶圓晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)150毫米對準(zhǔn)方式:上側(cè)對準(zhǔn):≤±0.5μm底側(cè)對準(zhǔn):≤±1,0μm紅外校準(zhǔn):≤±2,0μm/具體取決于基材鍵對準(zhǔn):≤±2,0μmNIL對準(zhǔn):≤±3.0μm曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式楔形補(bǔ)償:全自動軟件控制曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR實(shí)時遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理納米壓印光刻技術(shù):SmartNIL®光刻機(jī)利用光學(xué)原理將光線聚焦在光刻膠上,通過光刻膠的曝光和顯影過程,將芯片設(shè)計圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片

HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片,光刻機(jī)

掩模對準(zhǔn)系統(tǒng):EVG的發(fā)明,例如1985年世界上較早的擁有底面對準(zhǔn)功能的系統(tǒng),開創(chuàng)了頂面和雙面光刻,對準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例,并設(shè)定了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準(zhǔn)器產(chǎn)品來增強(qiáng)這些核欣光刻技術(shù),從而在這些領(lǐng)域做出了貢獻(xiàn)。EVG的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)可容納尺寸蕞大,尺寸和形狀以及厚度蕞大為300mm的晶片和基板,旨在為高級應(yīng)用提供先進(jìn)的自動化程度和研發(fā)靈活性的復(fù)雜解決方案。EVG的掩模對準(zhǔn)器和工藝能力已經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證,并已安裝在全球的生產(chǎn)設(shè)施中,以支持眾多應(yīng)用,包括高級封裝,化合物半導(dǎo)體,功率器件,LED,傳感器和MEMS制造。江西光刻機(jī)HERCULES光刻機(jī)系統(tǒng):全自動光刻根蹤系統(tǒng),模塊化設(shè)計,用于掩模和曝光,集成了預(yù)處理和后處理能力。

HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片,光刻機(jī)

EVG®150--光刻膠自動處理系統(tǒng)

EVG®150是全自動化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達(dá)300毫米。EVG150設(shè)計為完全模塊化的平臺,可實(shí)現(xiàn)自動噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過程和高通量性能。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復(fù)性。具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray技術(shù)進(jìn)行均勻涂覆,而傳統(tǒng)的旋涂技術(shù)則受到限制。EVG®150特征:晶圓尺寸可達(dá)300毫米多達(dá)六個過程模塊可自定義的數(shù)量-多達(dá)二十個烘烤/冷卻/汽化堆多達(dá)四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載

我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。我們的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計用于從掩模對準(zhǔn)到鍵合對準(zhǔn)的快速簡便轉(zhuǎn)換。此外,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,例如UV-納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對準(zhǔn)驗(yàn)證軟件,以提高手動操作系統(tǒng)的對準(zhǔn)精度和可重復(fù)性。EVG620NT/EVG6200NT可從手動到自動基片處理,實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場升級。此外,所有掩模對準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù)。如果您需要納米壓印設(shè)備,請?jiān)L問我們的官網(wǎng),或者直接聯(lián)系我們。岱美是EVG光刻機(jī)在中國的代理商,提供本地化的貼心服務(wù)。

HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片,光刻機(jī)

EVG光刻機(jī)簡介:EVG在1985年發(fā)明了世界上弟一個底部對準(zhǔn)系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻,對準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準(zhǔn)器來為這些領(lǐng)域做出貢獻(xiàn),以增強(qiáng)蕞重要的光刻技術(shù)。EVG的掩模對準(zhǔn)目標(biāo)是容納高達(dá)300mm的不同的尺寸,形狀和厚度的晶圓和基片,同時為高級應(yīng)用提供高科技含量的有效解決方案,并為研發(fā)提供充分的靈活可選性。EVG光刻機(jī)的掩模對準(zhǔn)器和工藝能力經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證,安裝并完美集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,可在眾多應(yīng)用場景中找到,包括高級封裝,化合物半導(dǎo)體,功率器件,LED,傳感器和MEMS。IQ Aligner NT 光刻機(jī)系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm尺寸的晶圓。安徽光刻機(jī)美元價

EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片

EVG120特征2:先進(jìn)且經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證的機(jī)器人具有雙末端執(zhí)行器功能,可確保連續(xù)的高產(chǎn)量;工藝技術(shù)桌越和開發(fā)服務(wù):多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[FrameworkSWPlatform]用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能設(shè)備和過程性能根蹤功能;并行/排隊(duì)任務(wù)處理功能;智能處理功能;發(fā)生和警報分析;智能維護(hù)管理和根蹤;技術(shù)數(shù)據(jù):可用模塊;旋涂/OmniSpray®/開發(fā);烤/冷;晶圓處理選項(xiàng):單/雙EE/邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn);彎曲/翹曲/薄晶圓處理。HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片

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龍車數(shù)控加工中心是一種高效、精密的機(jī)械加工設(shè)備,它采用數(shù)控技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)自動化加工,提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。龍車數(shù)控加工中心的特點(diǎn)1.高精度:龍車數(shù)控加工中心采用數(shù)控技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的加工,保證 。

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在火災(zāi)發(fā)生的緊急情況下,人們往往處于驚恐和混亂之中,很難迅速作出正確的判斷和應(yīng)對措施。然而,火災(zāi)的危害性和傳播速度極快,每秒鐘都可能造成人員傷亡和財產(chǎn)損失。因此,在火災(zāi)發(fā)生時,行之有效的火災(zāi)警報系統(tǒng)是 。

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新媒體如何運(yùn)營?真正喜歡你的人,就在微信上去運(yùn)營他們,找到那些有影響力的用戶,他們分三類:是本身有影響力,比如說一個現(xiàn)實(shí)生活中很有影響力的人,或者大V;第二是有創(chuàng)造力,會畫漫畫,會寫小說,會寫段子。第 。

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石英纖維板具有多種優(yōu)點(diǎn),這些優(yōu)點(diǎn)使其在多個領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用。以下是石英纖維板的一些主要優(yōu)點(diǎn):耐磨和耐用:石英纖維板經(jīng)過特殊處理,表面堅(jiān)硬且耐磨,能夠有效抵御日常使用中的劃痕和磨損,保持長久的美觀度。 。

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國內(nèi)外應(yīng)用于管線工程監(jiān)測的技術(shù)和方法正在從傳統(tǒng)的點(diǎn)式儀器監(jiān)測向分布式、自動化、高精度和遠(yuǎn)程監(jiān)測的方向發(fā)展。分布式光纖傳感技術(shù)是一種新型的實(shí)時在線監(jiān)測技術(shù),將探測光纜沿?zé)崃艿啦⑿蟹笤O(shè),可實(shí)現(xiàn)管道沿線的 。

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人造衛(wèi)星概述:人造衛(wèi)星對材料的要求非常高,需要具備輕量化度、耐腐蝕等特性。鈦加工件作為一種高性能材料,在人造衛(wèi)星中得到了應(yīng)用。應(yīng)用:鈦加工件用于制造人造衛(wèi)星的主體結(jié)構(gòu)、太陽能電池板、天線等部件。案例: 。

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